但毫無疑問,上述的拋光方法都是原子級的材料去除。比如下圖為彈性發(fā)射的加工原理,簡單來說是磨粒(微型刀具)靠近工件表面原子,利用原子間的相互作用力將工件表面原子

相應(yīng)地 如何實現(xiàn)零件的超光滑拋光已經(jīng)成為精密加一【 的一個重要研究課題 越來越彈性發(fā)射加工 低壓水射流拋光 場效應(yīng)輔助加工 等離子體輔助拋光 電

23.167非球面超精密拋光技術(shù)研究現(xiàn)狀木袁巨龍1, 2吳酷1呂冰海2阮德南1陸惠宗2趙萍2(1. 湖南大學(xué)國家高效磨削工程技術(shù)研究長沙4 100822. 浙江工業(yè)

3.2難加工材料的加工 對于硬脆材料的精密加工,超精密研磨、拋光是 一種有效的手段。運用特種加工技術(shù)如離子束拋光、 彈性發(fā)射加工等,可明顯提高加工表面質(zhì)量。美國

除 CMP 技術(shù)外,經(jīng)典的超精密研磨拋光方 法還有以下幾種。 (1)彈性發(fā)射加工(Elastic emission machine,EEM)。 日本大阪大學(xué) TSUWA 等研究了在工件表面,以

超精密拋光是加工速度極慢的一種加工方法。不適合形狀范成法加工,近年來,由于日本大阪大學(xué)工學(xué)部森勇芷教授等人利用EEM開發(fā)了一種三軸(x、z、C)數(shù)

(1) 彈性發(fā)射加工(Elastic emission machine,EEM)。日本大阪大學(xué)TSUWA 等研究了在工件表面,以原子級去除材料的可行性,建立了彈性發(fā)射加工理論,其加工

原子尺度超精密拋光,大氣壓等離子復(fù)合加工,電化學(xué)復(fù)合加工等。 教育經(jīng)歷: ◆ 2013.042016.03 大阪大學(xué)(日本),精密科學(xué)與技術(shù)專業(yè) 博士 ◆ 2011.0420

(強調(diào) 高面形精度和極低的粗糙度值) 1日本大阪大學(xué)森勇藏( Y. Mori) 等人發(fā)展的彈性發(fā)射加工[ 5 ] ( EEM Elastic Emission Machining) 技術(shù),采用浸液

計算機數(shù)控超精密拋光技術(shù)和非球面復(fù)印技術(shù)等,這些加工方法,基本上解決了各種非日本大阪大學(xué)工學(xué)部森勇正教授提出了一種用化學(xué)氣體加工的新的加工

超精密加工方法主要包括超精密切削(車、銑)、超精密磨削、超精密研磨(機械研磨、化學(xué)機械研磨、非接觸式浮動研磨、彈性發(fā)射加工等)以及超精密特種加工

(2)彈性發(fā)射拋光( ElasticEmissionMachining )彈性發(fā)射拋光是1979 年日本大阪大學(xué)光學(xué)者發(fā)明的一種計算機數(shù)控超光滑加工技術(shù), 它是利用微細(xì)粒子濺射到

并對超精密研 磨拋光加工的發(fā)展趨勢進行預(yù)測。 關(guān)鍵詞: 關(guān)鍵詞:化學(xué)機械研磨 彈性發(fā)射加工 動壓浮離拋光 浮法拋光 低溫拋光磁場輔助拋光 磨粒加工 使

隨著非接觸拋光技術(shù)進一步發(fā)展,不斷有新的非接觸式拋光方法出現(xiàn),如 日本大阪大學(xué)森勇藏等人發(fā)展的彈性發(fā)射加I(EEMElasticEmissionMachining) 技術(shù),日

1O.3901/JM E.2012.23.167 非球面超精密拋光技術(shù)研究現(xiàn)狀水 袁巨龍,2 吳酷 呂冰海 2 阮德南 陸惠宗 2 趙萍2 (1.湖南大學(xué)國家高效磨削工程

本次會議旨在研討第三代半導(dǎo)體材料的超精密磨削、拋光、切割、激光加工的工藝日本理化學(xué)研究所、九州大學(xué)、大阪大學(xué)、巖手大學(xué)、第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)

基于機械作用的超精密研磨拋光方法 基于機械作用的超精密研磨拋光方法是依靠微細(xì)磨粒的機械作用對被加工表面進行微量去除,達到高精度的加工表面。 彈性發(fā)射加工 彈性

10.3901/JME.2012.23.167 非球面超精密拋光技術(shù)研究現(xiàn)狀* 袁巨龍 1, 2 吳喆大學(xué)提出的彈性發(fā)射加工)或離子濺射(如 1988 年美 國新墨西哥大學(xué)完善的離子束

難波義治(Namba Yoshiharu)教授,日本大阪大學(xué)工學(xué)博士學(xué)位,先后于日本大阪大學(xué)和中部大學(xué)任教。長期從事精密超精密加工、光學(xué)元件測量以及激光加工等領(lǐng)域

(2)彈性發(fā)射拋光(ElasticEmissionMachining) 彈性發(fā)射拋光是1979年日本大阪大學(xué)光學(xué)者發(fā)明的一種計算機數(shù) 控超光滑加工技術(shù),它是利用微細(xì)粒子濺射到工

3、超精密研磨超精密研磨包括機械研磨、化學(xué)機械研磨、浮動研磨、彈性發(fā)射加工以及磁力研磨等加工方法。超精密研磨的關(guān)鍵條件是幾乎無振動的研磨運動

(1)彈性發(fā)射加工(E1astic emission machine, CMP是IBM公司于20世紀(jì)80年代中期開發(fā) EEM)。日本大阪大學(xué)TSUWA等H3】研究了在 工件表 的一項技術(shù),用