陶土坩堝玻璃纖維拉絲生產(chǎn)工藝與裝備 20. 磚瓦24門以下輪窯 （2010年） 21. 磚瓦18門以下輪窯以及立窯、無頂輪窯、馬蹄窯等土窯 22. 普通擠磚機 23. SJ雙軸、單軸攪拌機 24. SQP雙輥破碎機 25. 1000型普通切條機 ...
天眼查網(wǎng)為您提供局部涂層石英坩堝及其制作方法信息,該是寧夏富樂德石英材料有限公司的注冊,本發(fā)明提供一種局部涂層石英坩堝及其制備方法,屬于坩堝制造技術...查詢上天眼查。
按工藝要求調(diào)整氣體的流量、壓力、坩堝位置、晶轉(zhuǎn)、堝轉(zhuǎn)。 硅料全部熔化后熔體 必須有一定的穩(wěn)定時間達到熔體溫度和熔體的流動的穩(wěn)定。 裝料量越大,則所需時間越長。
高嶺土在七大行業(yè)中的應用 1高嶺土在造紙工業(yè)中的應用 在造紙工業(yè)中,高嶺土的國際市場比較繁榮,其銷量超過陶瓷、橡膠、油漆、塑料、耐火材料等行業(yè)。在紙漿中,高嶺土通常少與其配料發(fā)生反應,有較強的穩(wěn)定性,并且完好地保留在紙張纖維中。
350、一種石英陶瓷坩堝單側(cè)吸漿工藝及其中使用的石英漿料 351、聚乙烯醇縮醛樹脂、其漿料組合物、陶瓷坯片和多層陶瓷電容器 352、陶瓷生片用漿料組合物、陶瓷生片以及層疊陶瓷電容器
順大半導體發(fā)展有限公司太陽能用硅單晶片生產(chǎn)技術目 錄一、 硅片生產(chǎn)工藝中使用的主要原輔材料1、拉制單晶用的原輔材料,設備和部件2、供硅片生產(chǎn)用的原輔材料,設備和部件二、 硅片生產(chǎn)工藝技術1、硅單晶生產(chǎn)部（ 1） 、腐蝕清洗工序生產(chǎn)工藝技術對處理后原材料質(zhì)量要求（ 2） 、腐蝕清洗 ...
實驗室燒SM減水劑粉末,800℃燒一個小時后拿出的坩堝如圖片一樣個個外面都帶有白色粉末并且結(jié)塊附著在坩堝的的一側(cè),燒的過程坩堝都是帶著蓋的,我很納悶白色物質(zhì)是怎出來的,它們共同特征是白色附著物附近都有很細小的裂痕,裂痕很細,我確信,這個小裂痕不會導致粉末流出,更不會 ...
石英坩堝知識整理總結(jié) [圖片] 一：石英坩堝的歷史和現(xiàn)狀1.早期石英坩堝早期的石英坩堝是全部透明的,早期的石英坩堝是全部的透明的結(jié)構,這種透明的結(jié)構卻容易引起導致不均勻的熱傳輸條件,增加晶棒生長的困難度。所以這種坩堝基本被淘汰使用。
石英坩堝,具有高純度、耐溫性強、尺寸大精度高、保溫性好、節(jié)約能源、質(zhì)量穩(wěn)定等優(yōu)點,應用越來越廣泛。石英坩堝的檢測工作是一個十分重要的環(huán)節(jié),而且石英坩堝的檢測朝向現(xiàn)場檢測方向發(fā)展！
不透明的石英坩堝是用電弧法制成的,工藝簡單,成本低,而且可以生產(chǎn)出大口徑的坩堝,完全可以滿足單晶硅生產(chǎn)的需要。(2)方形的石英坩堝。方形的石英坩堝一般不是純的石英玻璃制成的,是用石英陶瓷制成的,其全稱應該是"方形石英玻璃陶瓷坩堝"。
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陶土坩堝玻璃纖維拉絲生產(chǎn)工藝 與裝備 磚瓦24門以下輪窯 （2010年） 磚瓦18門以下輪窯以及立窯、無頂輪窯、馬蹄窯等土窯 普通擠磚機 SJ雙軸、單軸攪拌機 SQP雙輥 …
· 網(wǎng)頁視圖15. 坩堝爐再生鋁合金、再生鉛生產(chǎn)工藝及設備 （2011年） 16. 直接燃煤反射爐再生鋁、再生鉛、再生銅生產(chǎn)工藝及設備 （2011年） 17. 50噸以下傳統(tǒng)固定式反射爐再生銅生產(chǎn)工藝及設備 （2012年） 18. 4噸以下反射爐再生鋁生產(chǎn)工藝及設備
粘土坩堝能熔煉絕大部分冕玻璃和火石玻璃,成本低,且在玻璃的熔化溫度超過鉑的使用溫度時采用。鉑坩堝可熔煉質(zhì)量較高、對粘土坩堝有嚴重侵蝕作用的玻璃,如重冕、重鋇火石、稀土玻璃和氟磷玻璃。鉑坩堝用電加熱,一般采用硅碳棒或硅鉬棒電爐。
3、采用土坑爐或坩堝爐焙燒、簡易冷凝設施收塵等落后方式煉制氧化砷或金屬砷工藝裝備 4、鋁自焙電解槽及 160KA 以下預焙槽 5、鼓風爐、電爐、反射爐煉銅工藝及設備 6、煙氣制酸干法凈化和熱濃酸洗滌技術 7、采用地坑爐、坩堝爐、赫氏爐等落后方式煉銻
泥（球粘土） 瓷砂（土） 高嶺土 鉀鈉長石 硅灰石 石灰石 透輝石 鋰輝石 霞石 鋁礬土 膨潤土 白云石 石英 鐵礦渣 碳酸鈣 滑石 葉蠟石 鉀長石 焦寶石 鈉長石 鋁砂
14.陶土坩堝玻璃纖維拉絲生產(chǎn)工藝 與裝備 15.磚瓦18門以下輪窯以及立窯、無頂輪窯、馬蹄窯等土窯 16.400型及以下普通擠磚機 17.450型普通擠磚機（2006年） 18.SJ雙軸、單軸攪拌機 ...
[簡介]：本技術提供了一種基于砷化鎵的微波整流芯片,解決傳統(tǒng)整流電路尺寸大、重量相對較重的問題。芯片采用0.25微米砷化鎵pHEMT工藝制成,芯片厚度為0.1毫米,芯片表面的電路由射頻輸入端口(1)、隔直電容(2)、輸入匹配電路(3)、肖特基二極管陣列(4)、輸出濾波電路(5)、直流輸出端口(6)依次 …
這是一個關于金屬材料表面處理工藝PPT課件,主要介紹金屬材料表面處理概述 5.2 表面淬火 5.3 表面化學熱處理技術 5.4 化學 ...
2019年關于材料實習報告范文精彩五篇【篇】 學習資料庫 壹寧 09:57:18
附件附件 附件 附件2 22 ：禁止東西兩翼和粵北山區(qū)承接產(chǎn)品目錄禁止東西兩翼和粵北山區(qū)承接產(chǎn)品目錄 禁止東西兩翼和粵北山區(qū)承接產(chǎn)品目錄 禁止東西兩翼和粵北山區(qū)承接產(chǎn)品目錄 、落后生產(chǎn)工藝裝備落后生產(chǎn)工藝裝備 落后生產(chǎn)工藝裝備 落后生產(chǎn)工藝裝備 ）農(nóng)林業(yè)農(nóng)林業(yè) 農(nóng)林業(yè) 農(nóng)林業(yè) 1、濕法 ...
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高品質(zhì)石英坩堝生產(chǎn)商,在生產(chǎn)石英坩堝過程中,往往會采用涂鋇工藝,來改善坩堝的質(zhì)量！ 氫氧化鋇使用原理： 過硫酸鉀、過氧化硫酸鉀（貨號：1.05091.0250/1000） 咨詢 水中總氮項目的測定常采用堿性過硫酸鉀消解紫外分光 ...
高品質(zhì)石英坩堝生產(chǎn)商,在生產(chǎn)石英坩堝過程中,往往會采用涂鋇工藝,來改善坩堝 的質(zhì)量！中文名稱： 碳酸鋇 Barium carbonate 同類推薦 八水合氫氧化鋇 過硫酸鉀、過氧化硫酸鉀 氫氧化鈉 優(yōu)級純 八水合氫氧化鋇 超純級 氫氧化鉀 ...
石英坩堝知識整理總結(jié) 涂鋇工藝也可用人工進行,但 是人工涂鋇的缺點在于在涂鋇的同時引進多余的雜質(zhì)且人工噴涂不均勻, 使得在開始拉晶的 時候由于雜質(zhì)過多或者單晶生長過程中內(nèi)壁脫落, ...
按工藝要求調(diào)整氣體的流量、壓力、坩堝位置、晶轉(zhuǎn)、堝轉(zhuǎn)。 硅料全部熔化后熔體 必須有一定的穩(wěn)定時間達到熔體溫度和熔體的流動的穩(wěn)定。 裝料量越大,則所需時間越長。
石英坩堝生產(chǎn)工藝流程：高純石英砂→高純石墨模具→真空裝料成型→真空電弧熔制→自然冷卻脫模→石英坩堝初步檢測→冷加工噴砂、切斷、倒角→石英坩堝二次檢測→超凈清洗、超聲、高壓噴淋 …
本發(fā)明屬于直拉單晶硅技術領域,尤其是涉及一種提高復投后直拉單晶硅成晶率的工藝方法。背景技術直拉單晶熱場使用的石英坩堝內(nèi)表面全部進行涂鋇處理。即石英坩堝內(nèi)壁涂上一層含有結(jié)晶水的氫氧化鋇(Ba(OH)2.8H2O)(飽和的氫氧化鋇水溶液),這層氫氧化鋇會與空氣中的,二氧化碳反應形成碳酸鋇 ...
350、一種石英陶瓷坩堝單側(cè)吸漿工藝及其中使用的石英漿料 351、聚乙烯醇縮醛樹脂、其漿料組合物、陶瓷坯片和多層陶瓷電容器 352、陶瓷生片用漿料組合物、陶瓷生片以及層疊陶瓷電容器
實驗室燒SM減水劑粉末,800℃燒一個小時后拿出的坩堝如圖片一樣個個外面都帶有白色粉末并且結(jié)塊附著在坩堝的的一側(cè),燒的過程坩堝都是帶著蓋的,我很納悶白色物質(zhì)是怎出來的,它們共同特征是白色附著物附近都有很細小的裂痕,裂痕很細,我確信,這個小裂痕不會導致粉末流出,更不會 ...
石英坩堝特性介紹： 1．石英坩堝可在1450度以下使用,分透明和不透明兩種。用電弧法制的半透明石英坩堝是拉制大直徑單晶硅,發(fā)展大規(guī)模集成電路必不可少的基礎材料。當今,世界半導體工業(yè)發(fā)達國家已用此坩堝取代了小的透明石英坩堝。
提供石英坩堝小結(jié)文檔免費下載,摘要:石英坩堝小結(jié)一石英坩堝的歷史和現(xiàn)狀1.早期石英坩堝早期的石英坩堝是全部透明的,早期的石英坩堝是全部的透明的結(jié)構,這種透明的結(jié)構卻容易引起導致不均勻的熱傳輸條件,增加晶棒生長的困難度。所以這種坩堝基本被淘汰使用。
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陶土坩堝玻璃纖維拉絲生產(chǎn)工藝與裝備 20. 磚瓦24門以下輪窯 （2010年） 21. 磚瓦18門以下輪窯以及立窯、無頂輪窯、馬蹄窯等土窯 22. 普通擠磚機 23. SJ雙軸、單軸攪拌機 24. SQP雙輥破碎機 25. 1000型普通切條機 ...
15. 坩堝爐再生鋁合金、再生鉛生產(chǎn)工藝及設備 （2011年） 16. 直接燃煤反射爐再生鋁、再生鉛、再生銅生產(chǎn)工藝及設備 （2011年） 17. 50噸以下傳統(tǒng)固定式反射爐再生銅生產(chǎn)工藝及設備 （2012年） 18. 4噸以下反射爐再生鋁生產(chǎn)工藝及設備
粘土坩堝能熔煉絕大部分冕玻璃和火石玻璃,成本低,且在玻璃的熔化溫度超過鉑的使用溫度時采用。鉑坩堝可熔煉質(zhì)量較高、對粘土坩堝有嚴重侵蝕作用的玻璃,如重冕、重鋇火石、稀土玻璃和氟磷玻璃。鉑坩堝用電加熱,一般采用硅碳棒或硅鉬棒電爐。
3、采用土坑爐或坩堝爐焙燒、簡易冷凝設施收塵等落后方式煉制氧化砷或金屬砷工藝裝備 4、鋁自焙電解槽及 160KA 以下預焙槽 5、鼓風爐、電爐、反射爐煉銅工藝及設備 6、煙氣制酸干法凈化和熱濃酸洗滌技術 7、采用地坑爐、坩堝爐、赫氏爐等落后方式煉銻
粉末涂料配方設計是開發(fā)新產(chǎn)品,向用戶提供涂膜性能滿意的粉末涂料產(chǎn)品,同時保證粉末涂料成本合理的重要環(huán)節(jié)。隨著我國粉末涂料工業(yè)的迅速發(fā)展,新的粉末涂料廠在增多,老的也在不斷擴大生產(chǎn)規(guī)模,從事粉末涂料專業(yè)的工程技術人員不斷增多。
順大半導體發(fā)展有限公司太陽能用硅單晶片生產(chǎn)技術目 錄一、 硅片生產(chǎn)工藝中使用的主要原輔材料1、拉制單晶用的原輔材料,設備和部件2、供硅片生產(chǎn)用的原輔材料,設備和部件二、 硅片生產(chǎn)工藝技術1、硅單晶生產(chǎn)部（ 1） 、腐蝕清洗工序生產(chǎn)工藝技術對處理后原材料質(zhì)量要求（ 2） 、腐蝕清洗 ...
[簡介]：本技術提供了一種基于砷化鎵的微波整流芯片,解決傳統(tǒng)整流電路尺寸大、重量相對較重的問題。芯片采用0.25微米砷化鎵pHEMT工藝制成,芯片厚度為0.1毫米,芯片表面的電路由射頻輸入端口(1)、隔直電容(2)、輸入匹配電路(3)、肖特基二極管陣列(4)、輸出濾波電路(5)、直流輸出端口(6)依次 …
石英坩堝知識整理總結(jié) [圖片] 一：石英坩堝的歷史和現(xiàn)狀1.早期石英坩堝早期的石英坩堝是全部透明的,早期的石英坩堝是全部的透明的結(jié)構,這種透明的結(jié)構卻容易引起導致不均勻的熱傳輸條件,增加晶棒生長的困難度。所以這種坩堝基本被淘汰使用。
年全球及中國石英坩堝行業(yè)發(fā)展全面調(diào)研與未來趨勢,石英坩堝,具有高純度、耐溫性強、尺寸大精度高、保溫性好、節(jié)約能源、質(zhì)量穩(wěn)定等優(yōu)點,應用越來越廣泛。石英坩堝的檢測工作是一個十分重要的環(huán)節(jié),而且石英坩堝的檢測朝向現(xiàn)場檢測方向發(fā)展。
玻璃器皿是用玻璃所造的器皿。 玻璃藝術在我國保持了連綿不斷幾千年的發(fā)展歷史。明代萬歷年間,山東博山的料器制作已十分繁榮興盛,明末清初傳入北京,在清初康熙、雍正、乾隆時期,琉璃生產(chǎn)一度得到復興,清康熙三十五年,北京出現(xiàn)大規(guī)模的"琉璃廠",生產(chǎn)皇宮享用的料器。
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高品質(zhì)石英坩堝生產(chǎn)商,在生產(chǎn)石英坩堝過程中,往往會采用涂鋇工藝,來改善坩堝的質(zhì)量！ 氫氧化鋇使用原理： Ba(OH)2,含有結(jié)晶水的粉狀或粒狀的晶體,要求純度達到99.99%,是光伏行業(yè)單晶坩堝冷涂層的理想化學原料。
注：涂鋇工藝的原理： 這是因為鋇在硅中的平衡偏析系數(shù)非常小, 使得他在硅晶棒中的濃度小于 2.5x10 （-9） /cm3, 因而不會影響到晶棒的品質(zhì)。通常的做法是將石英坩堝壁涂上一層含有結(jié)晶水的氫氧化鋇 （Ba(OH)2.8H2O） （飽和的氫氧化鋇水溶液） 。
wenku.baidu.com› 百度文庫› 高校與高等教育這種石英石墨坩堝使用壽命的限制,是生長更大尺寸 晶棒及 ccz（多次加料）晶棒生長的一大阻礙。 涂鋇工藝與原理 人們發(fā)現(xiàn),只要在石英坩堝上涂一層可以促進 devitrification 的物質(zhì),既 可大幅度的增加石英坩堝的使用壽命及成晶率。
wenku.baidu.com› 百度文庫› 高校與高等教育石英坩堝,具有高純度、耐溫性強、尺寸大精度高、保溫性好、節(jié)約能源、質(zhì)量穩(wěn)定等優(yōu)點,應用越來越廣泛。石英坩堝的檢測工作是一個十分重要的環(huán)節(jié),而且石英坩堝的檢測朝向現(xiàn)場檢測方向發(fā)展！
寧波寶斯達有一種涂鋇鍋,可應用到太陽能單晶用坩堝上。涂鋇工藝也可用人工進行,但是人工涂鋇的缺點在于在涂鋇的同時引進多余的雜質(zhì)且人工噴涂不均勻,使得在開始拉晶的時候由于雜質(zhì)過多或者單晶生長過程中內(nèi)壁脫落,造成放肩時斷線,需提雜后才能進行繼續(xù)拉晶。
本發(fā)明屬于直拉單晶硅技術領域,尤其是涉及一種提高復投后直拉單晶硅成晶率的工藝方法。背景技術直拉單晶熱場使用的石英坩堝內(nèi)表面全部進行涂鋇處理。即石英坩堝內(nèi)壁涂上一層含有結(jié)晶水的氫氧化鋇(Ba(OH)2.8H2O)(飽和的氫氧化鋇水溶液),這層氫氧化鋇會與空氣中的,二氧化碳反應形成碳酸鋇 ...
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