超高真空多功能薄膜制備系統(tǒng)(磁控濺射、電子束蒸發(fā)) 儀器簡介：此系統(tǒng)可以配置多種沉積方式(預(yù)留各種功能接口),高度靈活,非常適合多種沉積模式的科研.高真空條件沉積模式（使用機械泵+分子泵,或冷凝 …
《薄膜制備技術(shù)基礎(chǔ)》是化學(xué)工業(yè)出版社于2009年出版的書籍,此書較為系統(tǒng)、全面地介紹了與薄膜制備技術(shù)相關(guān)的各種基礎(chǔ)知識,涉及了薄膜制備系統(tǒng)、典型的物理制膜與化學(xué)制膜方法、薄膜加工方法,以及常用的薄膜性能表征技術(shù),同時緊密結(jié)合當(dāng)前薄膜領(lǐng)域進(jìn)的技術(shù)、方法和裝置。
目前,組合薄膜生長往往采用往復(fù)平行位移掩膜板的方式,這樣不可避免造成累積誤差,直接影響到薄膜制備過程中組分控制的精度。此外線性掩膜板反復(fù)變向及加減速操作也會加速機械部分磨損,降低系統(tǒng)穩(wěn)定性。
薄膜沉積制備系統(tǒng) 芬蘭PICOSUN? R200系列設(shè)備提供高質(zhì)量ALD薄膜的沉積技術(shù),并在各種各樣的襯底上都表現(xiàn)的均勻性,包括挑戰(zhàn)性的通孔的、超高深寬比和顆粒等樣品。
本實用新型是關(guān)于薄膜制備裝置領(lǐng)域,特別涉及自動平板式PECVD氧化鋁與氮化硅疊層薄膜制備系統(tǒng)。背景技術(shù)： 近年來,為了降低太陽能電池的成本,硅片的厚度不斷降低,但是隨著硅片厚度的減薄,少數(shù)載流子的擴散長度可能接近或大于硅片的厚度,部分少數(shù)載流子將會擴散到電池背面而產(chǎn)生復(fù)合 ...
薄膜制備 壓片/輥壓 切片設(shè)備 焊接設(shè)備 清洗設(shè)備 輔助設(shè)備 電子天平 手套箱 除濕機 真空系統(tǒng) 供氣系統(tǒng) 水冷機 實驗設(shè)備（按工藝分） 混料制漿設(shè)備 涂布設(shè)備 壓片/輥壓設(shè)備 分切/裁切設(shè)備 焊接設(shè)備 卷繞/疊片設(shè)備 電池組裝設(shè)備 電池安全性測試設(shè)備 加熱爐系列
關(guān)鍵詞：薄膜制備,PVD,CVD,鍍膜工藝 薄膜制備工藝包括薄膜制備方法的選擇 基體材料的選擇及表面處理 薄膜制備條件的選擇和薄膜結(jié)構(gòu)、性能與工藝參數(shù)的關(guān)系等 物理氣相沉積（PVD）這種薄膜制備方法 …
三元硫?qū)倩衔颿u-sn-s系統(tǒng)薄膜制備及表征,薄膜表征,多孔材料制備與表征,催化劑制備與表征,氟化合物制備及應(yīng)用,溶膠凝膠法制備薄膜,薄膜制備,薄膜制備技術(shù)基礎(chǔ),薄膜的制備方法,薄膜制備工藝
上海續(xù)波光電技術(shù)有限公司是一家專業(yè)從事高性能薄膜沉積及處理設(shè)備、光電材料及軟件、金剛石合成及應(yīng)用等產(chǎn)品及服務(wù)進(jìn)口的技術(shù)貿(mào)易服務(wù)型公司。公司今已與法國、德國、英國、瑞士、意大利、美國、加拿大、日本等國家的多家企業(yè)建立了戰(zhàn)略合作關(guān)系,并服務(wù)于國內(nèi)從事微電子、半導(dǎo)體 ...
薄膜的制備與濺射條件有很大的關(guān)系,其中電源的輸出功率和 Ar 氣的壓強對 :聚四氟乙烯薄膜的制備及其紅外光譜研究1765 薄膜沉積的影響明顯. 當(dāng)功率太大時,所得薄膜為淡黃色,靶面上的濺射痕跡也是淡黃 這是因為功率太大時,靶面溫度太高,從而使得 部分碳化,薄膜中 的含量增加,從而使得薄膜的 ...
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Laser-MBE系統(tǒng)屬于一代（第三代）高通量組合薄膜制備系統(tǒng)。利用高能脈沖激光,將靶材成分濺射到基片處進(jìn)行外延生長。在生長過程中利用可移動的掩膜板,能夠在一片基片上生長出連續(xù)梯度組分薄膜,大大提高了薄膜生長效率,更有利于新材料的探索與物性研究。
東方金榮的超聲波精密噴涂設(shè)備可用于玻璃、金屬、陶瓷、塑料、聚合物等各種軟硬基材上的多種功能性納米薄膜的制備,諸如AR減反增透薄膜、親水及疏水涂層、納米銀線、碳納米管、石墨烯等透明導(dǎo)電薄膜、TCO、量子點、鈣鈦礦等等。
負(fù)責(zé)人：趙玉清所在學(xué)院：電信學(xué)院 一、項目簡介1.基本情況碳基薄膜包括種類很多,例如石墨、金剛石、非晶碳、石墨烯、碳納米管、碳化硅、碳化鈦等,因此碳基材料具有非常豐富的物理化學(xué)特性,一直是科學(xué)家研究的。碳基薄膜中C有四個價電子,可以有包含sp3、sp2和sp1三種雜化方式。
東方國際招標(biāo)有限責(zé)任公司受中國科學(xué)院化學(xué)研究所委托,根據(jù)《中華人民共和國政府采購法》等有關(guān)規(guī)定,現(xiàn)對中國科學(xué)院化學(xué)研究所高真空多功能薄膜制備系統(tǒng)采購項目進(jìn)行競爭性磋商招標(biāo),歡迎合格的供應(yīng)商前來投標(biāo)。
氧化物薄膜制備系統(tǒng)已具備招標(biāo)條件,項目招標(biāo)人為中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所,資金為國撥,出資比例為,資金已落實。 北京國科軍友工程咨詢有限公司（招標(biāo)機構(gòu)）受中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所（招標(biāo)人）的委托,現(xiàn)對該項目進(jìn)行國際公開招標(biāo)。
壓電薄膜的制備方法 壓電薄膜的制備方法主要有傳統(tǒng)的真空鍍膜方法,包括真空蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜、化學(xué)氣相沉積鍍膜是制備厚度在0～18μm,新型溶膠凝膠法、水熱法、電泳沉積法是制備10～100μm的壓電厚膜材料。
然而在較低溫度下制備的單層TCO 薄膜存在載流子遷移率較低,電阻率偏高,且因TCO 薄膜較脆,在柔性基底的彎曲性并不理想等缺點。 銀基多層透明導(dǎo)電薄膜如TCO/Ag/TCO 結(jié)構(gòu)的薄膜,因Ag 具有良好的導(dǎo)電性和延展性,Ag 的加入利于實現(xiàn)透明導(dǎo)電薄膜制備的低溫化,使得薄膜在彎曲狀態(tài)下保持 …
特別是當(dāng)光學(xué)系統(tǒng)中多譜段共用的光學(xué)元件較多時,光學(xué)薄膜的優(yōu)劣可能使光學(xué)系統(tǒng)的總體透過率有非常大的差別。因此,發(fā)展多譜段共用光學(xué)薄膜技術(shù)是提高多光合一光學(xué)系統(tǒng)性能的主要技術(shù)手段。
We are a leading analytical instrumentation company. Our precision instruments help develop better solutions at the frontiers of science. We offer world class know-how, committed to scientific excellence and continuous solution development.
這是獲得百納米級厚度適于直接制備太陽能電池等器件的較大面積單晶 鈣鈦礦薄膜的報道。研究表明 所制備 單晶薄膜具有良好的結(jié)晶性,與基底接觸良好,并且 具有 與 體相鈣鈦礦單晶 相當(dāng) 的光學(xué)和電學(xué)性能（圖2）,為進(jìn)一步制備和研究鈣鈦礦單晶 薄膜
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超高真空多功能薄膜制備系統(tǒng)(磁控濺射、電子束蒸發(fā)) 儀器簡介：此系統(tǒng)可以配置多種沉積方式(預(yù)留各種功能接口),高度靈活,非常適合多種沉積模式的科研.高真空條件沉積模式（使用機械泵+分子泵,或冷凝 …
《薄膜物理與器件》主要論述了薄膜物理與薄膜器件的基本內(nèi)容,并概括介紹了在新材料技術(shù)領(lǐng)域中有著重要應(yīng)用的幾類主要的薄膜材料。書中比較系統(tǒng)地介紹了薄膜的物理化學(xué)制備原理與方法,包括蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜、離子鍍、化學(xué)氣相沉積、溶液制膜技術(shù)等；同時介紹了薄膜的形成,薄膜的 ...
目前,組合薄膜生長往往采用往復(fù)平行位移掩膜板的方式,這樣不可避免造成累積誤差,直接影響到薄膜制備過程中組分控制的精度。此外線性掩膜板反復(fù)變向及加減速操作也會加速機械部分磨損,降低系統(tǒng)穩(wěn)定性。
這些系統(tǒng)是zui理想的薄膜與涂層合成設(shè)備?？芍苽涞谋∧ぐǖ铩⒀趸?、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2D材料。Blue Wave還提供相關(guān)系統(tǒng)配件,例如基片加熱裝置、原位監(jiān)測工具。
多晶硅薄膜的制備方法 多晶硅薄膜材料同時具有單晶硅材料的高遷移率及非晶硅材料的可大面積、低成本制備的優(yōu)點。 因此,對于多晶硅薄膜材料的研究越來越引起人們的關(guān)注,多晶硅薄膜的制備工藝可分為兩大 類一類是高溫工藝,制備過程中溫度高于 600℃,襯底使用昂貴的石英,但制備工藝較 ...
智能薄膜的設(shè)計是基于膜對外界刺激響應(yīng)顯著改變的特性。這些外界刺激通常包括光、壓力、pH、溫度、濕度、電場及磁場等。多孔膜的門控性質(zhì)則是指膜孔道的打開和關(guān)閉。例如,當(dāng)一個納米通道薄膜系統(tǒng)處于打開狀態(tài)時,它允許離子傳輸從而實現(xiàn)離子電導(dǎo)。
薄膜材料的真空、等離子制備、處理技術(shù)現(xiàn)已被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電、太陽能等領(lǐng)域的研發(fā)以及成產(chǎn)當(dāng)中,這些技術(shù)包括： 等離子體增強化學(xué)氣相沉積反應(yīng)器（PECVD Reactors）
ADVANCED離子束濺射系統(tǒng) 1. 沉積各類金屬薄膜； 2. 磁性材料沉積需與平臺聯(lián)系確認(rèn)。 靶面溫度≤100℃, 臺面溫度5℃－25℃ 北儀電子束蒸發(fā)系統(tǒng) 蒸鍍鋁、銅、銀、鉭等薄膜, 烘烤溫度≤300℃ OLED器件實驗制備系統(tǒng) 金屬Al的蒸鍍 烘烤溫度≤200℃ 非晶硅
但是在濕化學(xué)方法制備功能薄膜方面研究還屬于探索研究之階段。 本團隊在此方向?qū)ふ彝黄瓶?研究了溶膠-凝膠合成、水熱合成、微波水熱合成、電化學(xué)沉積、水熱電化學(xué)沉積、液相自組裝合成、紫外光超精細(xì)選位原位氧化還原沉積等多種濕化學(xué)合成功能薄膜材料的新工藝。
光學(xué)薄膜是現(xiàn)代光學(xué)的一個重要分支,同時也是現(xiàn)代光學(xué)儀器和各種光學(xué)器件的重要組成部分。它通過在光學(xué)玻璃、光學(xué)塑料、光纖、晶體等各種材料的表面鍍制一層或多層薄膜,基于薄膜內(nèi)光的干涉效應(yīng)來改變透射光或反射光的光強、偏振狀態(tài)和相位變化,光學(xué)薄膜具有出色的牢固性和光學(xué)穩(wěn)定性 ...
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離子束濺射高通量薄膜制備系統(tǒng) 1套 利用離子束濺射系統(tǒng)可制備多元合金薄膜,在鍍膜均勻前提下,通過薄膜厚度的控制,實現(xiàn)成分連續(xù)性分布,成分范圍0-可控,分辨率可達(dá)到± 0.1%。
多功能薄膜制備系統(tǒng)-nanoETCH多功能薄膜制備系統(tǒng)-nanoETCH石墨烯等二維材料的微納加工與刻蝕需要很高的精度,而目前成熟的傳統(tǒng)半導(dǎo)體刻蝕系統(tǒng)在面對單層材料的高精度刻蝕需求時顯得力不從心。為了解決目前微納加工中常用的等離子刻蝕系統(tǒng) ...
目前,組合薄膜生長往往采用往復(fù)平行位移掩膜板的方式,這樣不可避免造成累積誤差,直接影響到薄膜制備過程中組分控制的精度。此外線性掩膜板反復(fù)變向及加減速操作也會加速機械部分磨損,降低系統(tǒng)穩(wěn)定性。
這些系統(tǒng)是zui理想的薄膜與涂層合成設(shè)備。可制備的薄膜包括氮化物、氧化物、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2D材料。Blue Wave還提供相關(guān)系統(tǒng)配件,例如基片加熱裝置、原位監(jiān)測工具。
東方國際招標(biāo)有限責(zé)任公司受中國科學(xué)院化學(xué)研究所委托,根據(jù)《中華人民共和國政府采購法》等有關(guān)規(guī)定,現(xiàn)對中國科學(xué)院化學(xué)研究所高真空多功能薄膜制備系統(tǒng)采購項目進(jìn)行競爭性磋商招標(biāo),歡迎合格的供應(yīng)商前來投標(biāo)。
蒸發(fā)鋁、銅、金、銀、鉬、鉭、鈦、鉻等金屬或合金薄膜 11. OLED器件實驗制備系統(tǒng) 主要技術(shù)指標(biāo)： 1. 配置：1個熱蒸發(fā)腔室、1臺UV固化設(shè)備（365nm）及1氮氣手套箱,可實現(xiàn)OLED多層膜制備 …
薄膜材料的真空、等離子制備、處理技術(shù)現(xiàn)已被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電、太陽能等領(lǐng)域的研發(fā)以及成產(chǎn)當(dāng)中,這些技術(shù)包括： 等離子體增強化學(xué)氣相沉積反應(yīng)器（PECVD Reactors）
一種光致穩(wěn)定非線性硫系薄膜及制備方法 【摘要】一種光致穩(wěn)定非線性硫系薄膜及其制備方法,屬于光學(xué)薄膜和非線性光學(xué)材料。薄膜的化學(xué)組成為GexAsySzSe100-x-y-z,其中10≤x≤14,20≤y≤28,16≤z≤50；其制備采用真空熱蒸鍍法,真空度為10 ...
a-IGZO薄膜晶體管的制備及溫度特性研究-為了滿足對于航空航天、工業(yè)燃油渦輪機、石油與天然氣等工業(yè)領(lǐng)域的探索,滿足在高溫環(huán)境下傳感器測試以及讀取系統(tǒng)的穩(wěn)定工作,制造出能夠滿足在極端環(huán)境下穩(wěn)定工作的電子器件是目前亟待攻克的難關(guān)...
特別是當(dāng)光學(xué)系統(tǒng)中多譜段共用的光學(xué)元件較多時,光學(xué)薄膜的優(yōu)劣可能使光學(xué)系統(tǒng)的總體透過率有非常大的差別。因此,發(fā)展多譜段共用光學(xué)薄膜技術(shù)是提高多光合一光學(xué)系統(tǒng)性能的主要技術(shù)手段。
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超高真空多功能薄膜制備系統(tǒng)(磁控濺射、電子束蒸發(fā)) 儀器簡介：此系統(tǒng)可以配置多種沉積方式(預(yù)留各種功能接口),高度靈活,非常適合多種沉積模式的科研.高真空條件沉積模式（使用機械泵+分子泵,或冷凝 …
Quantum Design中國-BlueWave是美國的半導(dǎo)體設(shè)備、材料生產(chǎn)商,提供多種薄膜制備系統(tǒng),包括：? 脈沖激光沉積(PLD)? 電子束蒸發(fā)? 熱蒸發(fā)? 反應(yīng)濺射? 熱絲化學(xué)氣相沉積(HFCVD)? 熱化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(TCVD)這些系統(tǒng)是理想的薄膜與涂層合成設(shè)備。
多功能薄膜制備系統(tǒng)-nanoETCH多功能薄膜制備系統(tǒng)-nanoETCH石墨烯等二維材料的微納加工與刻蝕需要很高的精度,而目前成熟的傳統(tǒng)半導(dǎo)體刻蝕系統(tǒng)在面對單層材料的高精度刻蝕需求時顯得力不從心。為了解決目前微納加工中常用的等離子刻蝕系統(tǒng) ...
提供 脈沖激光沉積、分子束外延薄膜制備系統(tǒng)（NEW）的詳細(xì)參數(shù)指標(biāo)和應(yīng)用范圍,以及 脈沖激光沉積、分子束外延薄膜制備系統(tǒng)（NEW）的廠商報價和資料,QUANTUM量子科學(xué)儀器貿(mào)易（北京）有限公司也是激光脈沖沉積(PLD)儀器專業(yè)品牌供應(yīng)商
薄膜制備 壓片/輥壓 切片設(shè)備 焊接設(shè)備 清洗設(shè)備 輔助設(shè)備 電子天平 手套箱 除濕機 真空系統(tǒng) 供氣系統(tǒng) 水冷機 實驗設(shè)備（按工藝分） 混料制漿設(shè)備 涂布設(shè)備 壓片/輥壓設(shè)備 分切/裁切設(shè)備 焊接設(shè)備 卷繞/疊片設(shè)備 電池組裝設(shè)備 電池安全性測試設(shè)備 加熱爐系列
可制備一張石墨烯片,以驗證LS是制備和研究單層石墨烯和氧化石墨烯薄膜的好方法。 Gilje, S. et al., 'Nano Letters' (2007), 7, 親脂性蛋白常常存在于細(xì)胞膜中,漂浮單分子層模型可用于研究它們在接近原始環(huán)境時的相互作用,研究參數(shù)包括不同環(huán)境或含量的膜的堆積密度。
目前,組合薄膜生長往往采用往復(fù)平行位移掩膜板的方式,這樣不可避免造成累積誤差,直接影響到薄膜制備過程中組分控制的精度。此外線性掩膜板反復(fù)變向及加減速操作也會加速機械部分磨損,降低系統(tǒng)穩(wěn)定性。
發(fā)布時間： 瀏覽：182 次 實用超導(dǎo)薄膜研究團隊 一、項目介紹 實用超導(dǎo)薄膜研究團隊由物理所趙忠賢院士團隊、高能所貽芳院士團隊、近物所詹文龍院士團隊、電子科大李言榮院士團隊、理化所李來風(fēng)研究員團隊組成,整合了國內(nèi)在超導(dǎo)材料探索、超導(dǎo)薄膜制備、低溫技術(shù)、大型粒子加 …
在線咨詢內(nèi)容來源：礦石粉碎設(shè)備 http://nkfayrb.cn
始于1987，近30年來只專注于礦機領(lǐng)域，從初的技術(shù)引進(jìn)到一大批自主研發(fā)的技術(shù)的成功應(yīng)用于實際生產(chǎn)作業(yè)，敢于創(chuàng)新、追求的世邦團隊始終堅持以優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品、專業(yè)的技術(shù)、誠的服務(wù)，幫助客戶創(chuàng)造更大收益，用實際行動來推動世界礦機制造行業(yè)的發(fā)展。
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